Şeffaf Alümina Seramik Kolon: Gelişmiş Uygulamalar için Yüksek Hassasiyetli Bir Çözüm Şeffaf Alümina Kolon, netliğin, dayanıklılığın ve hassasiyetin gerekli olduğu yüksek performanslı ortamlarda kullanılmak üzere tasarlanmış özel bir bileşendir. Performansı Zirkonya seramiğinden daha düşük değildir. Bu ürün aynı zamanda Alümina Kolon veya Özel Şeffaf Alümina Kolon olarak da bilinir ve optik şeffaflık ile yapısal gücün benzersiz bir kombinasyonunu sunar. Yüksek saflıkta alüminadan üretilen bu kolon, ısıya, korozyona ve mekanik strese karşı mükemmel direnç sağlayarak onu çok çeşitli endüstriyel ve bilimsel uygulamalar için ideal kılar. Kolonun şeffaf yapısı, dahili süreçlerin görsel olarak izlenmesine olanak tanıyarak operasyonel verimliliği ve güvenliği artırır. İster laboratuvar ortamlarında, ister üretim tesislerinde, ister araştırma ortamlarında kullanılsın, Şeffaf Alümina Sütunu, modern mühendislik ve bilimsel uygulamaların taleplerini karşılayan güvenilir ve çok yönlü bir araç olarak hizmet eder. Şeffaf Alümina Kolonun Temel Özellikleri arasında olağanüstü berraklık, yüksek termal stabilite, kimyasal direnç ve özelleştirilebilir tasarım seçenekleri bulunur. Bu özellikler onu hem görsel erişim hem de sağlam malzeme özellikleri gerektiren uygulamalar için uygun hale getirir. Kolonun boyutunu, şeklini ve kaplamasını kişiselleştirme yeteneği, kolonun belirli proje gereksinimlerine uyacak şekilde uyarlanabilmesini sağlar. Ayrıca ürünün reaktif olmayan yüzeyi onu çeşitli kimyasallar ve maddelerle uyumlu hale getirerek farklı endüstrilerde kullanılabilirliğini daha da genişletiyor. Şeffaf Alümina Kolonun ayrıntılı açıklaması, tutarlılık ve performans sağlamak için sıkı işleme tabi tutulan gelişmiş seramik malzemelerden yapılan yapısını vurgulamaktadır. Buna, kolonun boyutsal doğruluğuna ve uzun vadeli güvenilirliğine katkıda bulunan hassas işleme teknikleri ve yüksek sıcaklıkta sinterleme de dahildir. Malzemenin düşük gözenekliliği ve yüksek yoğunluğu, optik özelliklerini geliştirerek bozulma olmadan net bir görünürlük sağlar. Ayrıca kolonun pürüzsüz yüzey kaplaması kirlenme risklerini en aza indirir ve kolay temizlik ve bakımı kolaylaştırır. Şeffaf Alümina Kolonunun kullanımı analitik kimya, ilaç, yarı iletken üretimi ve optik enstrümantasyon gibi alanlarda yaygındır. Netliği korurken zorlu koşullara dayanma yeteneği, onu yüksek sıcaklıktaki ortamlar, aşındırıcı maddeler veya hassas malzemeler içeren uygulamalar için tercih edilen bir seçim haline getirir. Örneğin kromatografi sistemlerinde kolon, numune ayırma işlemlerinin gerçek zamanlı gözlemlenmesine olanak tanıyarak analizin doğruluğunu ve verimliliğini artırır. Endüstriyel filtreleme kurulumlarında kolon, sıvı akışının ve partikül tutulmasının izlenmesini destekleyerek optimum sistem performansı sağlar. Şeffaf Alümina Kolon ile kullanıcı deneyimi sürekli olarak olumludur ve birçok profesyonel, güvenilirliğini ve performansını övmektedir. Kullanıcılar genellikle mevcut sistemlere entegrasyonun kolaylığını ve malzemenin dayanıklılığı nedeniyle minimum düzeyde bakım gerektirdiğini belirtiyorlar. Ürünün uzun süreli kullanımlarda netliği koruma yeteneği, sık sık değiştirme veya ayarlama ihtiyacını azalttığı için özellikle değerlidir. Birçok kullanıcı, kalite veya işlevsellikten ödün vermeden sütunu kendi özel ihtiyaçlarına göre uyarlamalarına olanak tanıyan özel tasarım seçeneğinin sunduğu esnekliği de takdir ediyor. Şeffaf Alümina Kolonun kurulumunu ve kullanımını değerlendirirken, doğru kullanım ve uzun ömürlülük sağlamak için üreticinin yönergelerine uymak önemlidir. Bu, kolonu monte etmek ve sabitlemek için uygun aletlerin kullanılmasını ve ayrıca aşırı fiziksel darbelere veya ani sıcaklık değişimlerine maruz kalmaktan kaçınmayı içerir.
ALÜMİNA SERAMİK TEKNOLOJİ VERİLERİ
|
ITEM
|
UNIT
|
99.9 ALUMINA
|
|
Density
|
G/cm3
|
3.94
|
|
Bending Resistance
|
Mpa
|
500
|
|
Compressive Strength
|
Mpa
|
3300
|
|
Elasticity Modulus
|
Gpa
|
400
|
|
Shock Strength
|
Mpam/2
|
5.2
|
|
Vaporization Coefficient
|
M
|
12
|
|
Vickers Hardness
|
HV0.5
|
2000
|
|
Thermal Expansivity
|
10-6K-1
|
8.0
|
|
Conductivity
|
W/MK
|
28
|
|
Thermal Shock Resistance
|
AT℃
|
280
|
|
Maximum Service Temperature
|
℃
|
1750
|
|
20℃ Volume Resistance
|
Ω
|
≥1015
|
|
Dielectric Strength
|
KV/mm
|
30
|
|
Apparent Porosity
|
%
|
0
|
|
Permittivity
|
Er
|
10
|
|
Dielectric Loss Angle
|
tanδ
|
0.001
|
ALÜMİNA TOZU TEKNOLOJİ VERİLERİ
|
ITEM
|
LS-110
|
LS-120
|
LS-130
|
LS-110F
|
LS-220
|
LS-210
|
|
LOI(%)
|
0.02
|
0.02
|
0.05
|
0.08
|
0.03
|
0.01
|
|
Na2O(%)
|
0.05
|
0.04
|
0.03
|
0.05
|
0.07
|
0.08
|
|
SiO2(%)
|
0.07
|
0.07
|
0.07
|
0.09
|
0.02
|
0.02
|
|
Fe2O3(%)
|
0.03
|
0.03
|
0.03
|
0.03
|
0.02
|
0.02
|
|
Al2O3(%)
|
99.9
|
99.9
|
99.9
|
99.9
|
99.9
|
99.9
|
|
average grain diameter(um)
|
1.7
|
2.1
|
2.2
|
1.1
|
2.7
|
2.9
|
|
αgrain diameter(um)
|
1-2
|
1-3
|
2-4
|
1-2
|
2-3
|
3-5
|
|
BET Surface Area(m2/g)
|
1.9
|
1.4
|
1.4
|
3.2
|
1.6
|
0.9
|
|
Pressure-induced volume density(g/cm3)*
|
2.22
|
2.27
|
2.31
|
2.29
|
2.22
|
2.32
|
|
Forming density(g/cm3)**
|
2.13
|
2.20
|
2.23
|
2.33
|
2.17
|
2.30
|
|
Sintering volume density(g/cm3)**
|
3.78
|
3.79
|
3.78
|
3.89
|
3.81
|
3.77
|
|
Line collection efficiency(%)
|
18.0
|
17.2
|
16.7
|
15.7
|
17.5
|
15.3
|